問(wèn)答題什么是外延層?為什么硅片上要使用外延層?
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定義刻蝕速率并描述它的計(jì)算公式。為什么希望有高的刻蝕速率?
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光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個(gè)重要參數(shù)是什么?
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描述RF濺射系統(tǒng)。
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例舉離子注入工藝和擴(kuò)散工藝相比的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)。
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離子源的目的是什么?最常用的離子源是什么?
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