描述RF濺射系統(tǒng)。

解釋什么是暗場掩模板？

什么是阻擋層金屬？阻擋層材料的基本特征是什么？哪種金屬常被用作阻擋層金屬？

什么是摻雜？例舉四種常用的摻雜雜質(zhì)并說明它們是n型還是p型？

給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？

離子源的目的是什么？最常用的離子源是什么？

例舉雙大馬士革金屬化過程的10個步驟。

描述曝光波長和圖像分辨率之間的關(guān)系。

解釋正性光刻和負性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？

描述化學機械平坦化工藝。