例舉離子注入工藝和擴(kuò)散工藝相比的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)。

描述曝光波長和圖像分辨率之間的關(guān)系。

例舉離子注入設(shè)備的5個(gè)主要子系統(tǒng)。

例舉雙大馬士革金屬化過程的10個(gè)步驟。

什么是結(jié)深？

光刻中采用步進(jìn)掃描技術(shù)獲得了什么好處？

解釋掃描投影光刻機(jī)是怎樣工作的？掃描投影光刻機(jī)努力解決什么問題？

例舉并解釋硅中固態(tài)雜質(zhì)擴(kuò)散的三個(gè)步驟。

什么是阻擋層金屬？阻擋層材料的基本特征是什么？哪種金屬常被用作阻擋層金屬？

描述RF濺射系統(tǒng)。