刻蝕工藝有哪兩種類型？簡單描述各類刻蝕工藝。

描述曝光波長和圖像分辨率之間的關(guān)系。

例舉雙大馬士革金屬化過程的10個步驟。

描述電子回旋共振（ECR）。

解釋正性光刻和負性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？

解釋離子束擴展和空間電荷中和。

光學光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個重要參數(shù)是什么？

離子源的目的是什么？最常用的離子源是什么？

例舉并解釋硅中固態(tài)雜質(zhì)擴散的三個步驟。

例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個基本步驟。