例舉并解釋硅中固態(tài)雜質(zhì)擴(kuò)散的三個步驟。

描述RF濺射系統(tǒng)。

描述電子回旋共振（ECR）。

什么是硅化物？難熔金屬硅化物在硅片制造業(yè)中重要的原因是什么？

給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？

解釋離子束擴(kuò)展和空間電荷中和。

解釋掃描投影光刻機(jī)是怎樣工作的？掃描投影光刻機(jī)努力解決什么問題？

解釋什么是暗場掩模板？

在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么？

哪種化學(xué)氣體經(jīng)常用來刻蝕多晶硅？描述刻蝕多晶硅的三個步驟。