離子源的目的是什么？最常用的離子源是什么？

什么是阻擋層金屬？阻擋層材料的基本特征是什么？哪種金屬常被用作阻擋層金屬？

例舉離子注入工藝和擴(kuò)散工藝相比的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)。

光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個(gè)重要參數(shù)是什么？

解釋離子束擴(kuò)展和空間電荷中和。

刻蝕工藝有哪兩種類型？簡單描述各類刻蝕工藝。

例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個(gè)基本步驟。

例舉并解釋硅中固態(tài)雜質(zhì)擴(kuò)散的三個(gè)步驟。

干法刻蝕的目的是什么？例舉干法刻蝕同濕法刻蝕相比具有的優(yōu)點(diǎn)。干法刻蝕的不足之處是什么？

描述電子回旋共振（ECR）。