什么是結(jié)深？

刻蝕工藝有哪兩種類型？簡單描述各類刻蝕工藝。

解釋發(fā)生刻蝕反應(yīng)的化學(xué)機(jī)理和物理機(jī)理。

什么是摻雜？例舉四種常用的摻雜雜質(zhì)并說明它們是n型還是p型？

例舉雙大馬士革金屬化過程的10個(gè)步驟。

解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低？

解釋正性光刻和負(fù)性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？

描述曝光波長和圖像分辨率之間的關(guān)系。

什么是阻擋層金屬？阻擋層材料的基本特征是什么？哪種金屬常被用作阻擋層金屬？

例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。