解釋掃描投影光刻機(jī)是怎樣工作的？掃描投影光刻機(jī)努力解決什么問題？

什么是硅化物？難熔金屬硅化物在硅片制造業(yè)中重要的原因是什么？

刻蝕工藝有哪兩種類型？簡單描述各類刻蝕工藝。

敘述氮化硅的濕法化學(xué)去除工藝。

例出光刻的8個步驟，并對每一步做出簡要解釋。

光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個重要參數(shù)是什么？

在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么？

解釋正性光刻和負(fù)性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？

描述電子回旋共振（ECR）。

給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？