給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？

例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。

例出光刻的8個步驟，并對每一步做出簡要解釋。

解釋鋁已經(jīng)被選擇作為微芯片互連金屬的原因。

什么是阻擋層金屬？阻擋層材料的基本特征是什么？哪種金屬常被用作阻擋層金屬？

例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個基本步驟。

解釋掃描投影光刻機是怎樣工作的？掃描投影光刻機努力解決什么問題？

描述曝光波長和圖像分辨率之間的關(guān)系。

解釋離子束擴展和空間電荷中和。

光刻中采用步進掃描技術(shù)獲得了什么好處？