解釋什么是暗場掩模板？

解釋離子束擴展和空間電荷中和。

解釋光刻膠顯影。光刻膠顯影的目的是什么？

描述曝光波長和圖像分辨率之間的關系。

描述電子回旋共振（ECR）。

給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？

描述RF濺射系統(tǒng)。

解釋鋁已經(jīng)被選擇作為微芯片互連金屬的原因。

什么是結深？

解釋發(fā)生刻蝕反應的化學機理和物理機理。