例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個(gè)基本步驟。

離子源的目的是什么？最常用的離子源是什么？

例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。

什么是阻擋層金屬？阻擋層材料的基本特征是什么？哪種金屬常被用作阻擋層金屬？

例舉并討論引入銅金屬化的五大優(yōu)點(diǎn)。

解釋鋁已經(jīng)被選擇作為微芯片互連金屬的原因。

什么是摻雜？例舉四種常用的摻雜雜質(zhì)并說明它們是n型還是p型？

描述曝光波長和圖像分辨率之間的關(guān)系。

光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個(gè)重要參數(shù)是什么？

光刻中采用步進(jìn)掃描技術(shù)獲得了什么好處？