例舉離子注入工藝和擴(kuò)散工藝相比的優(yōu)點和缺點。

例舉雙大馬士革金屬化過程的10個步驟。

敘述氮化硅的濕法化學(xué)去除工藝。

解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低？

光刻中采用步進(jìn)掃描技術(shù)獲得了什么好處？

什么是摻雜？例舉四種常用的摻雜雜質(zhì)并說明它們是n型還是p型？

光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個重要參數(shù)是什么？

例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。

解釋正性光刻和負(fù)性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？

例舉并討論引入銅金屬化的五大優(yōu)點。