問(wèn)答題描述在硅片廠中使用的去離子水的概念。
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1.問(wèn)答題砷化鎵相對(duì)于硅的優(yōu)點(diǎn)是什么？
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5.問(wèn)答題什么是More moore定律和More than Moore定律？
最新試題
定義刻蝕選擇比。干法刻蝕的選擇比是高還是低？高選擇比意味著什么？
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刻蝕工藝有哪兩種類(lèi)型？簡(jiǎn)單描述各類(lèi)刻蝕工藝。
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例舉并討論引入銅金屬化的五大優(yōu)點(diǎn)。
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描述RF濺射系統(tǒng)。
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離子源的目的是什么？最常用的離子源是什么？
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例舉并解釋硅中固態(tài)雜質(zhì)擴(kuò)散的三個(gè)步驟。
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在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么？
題型：?jiǎn)柎痤}
解釋離子束擴(kuò)展和空間電荷中和。
題型：?jiǎn)柎痤}
解釋光刻膠顯影。光刻膠顯影的目的是什么？
題型：?jiǎn)柎痤}
例舉離子注入設(shè)備的5個(gè)主要子系統(tǒng)。
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