什么是阻擋層金屬？阻擋層材料的基本特征是什么？哪種金屬常被用作阻擋層金屬？

給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？

定義刻蝕速率并描述它的計(jì)算公式。為什么希望有高的刻蝕速率？

描述電子回旋共振（ECR）。

描述RF濺射系統(tǒng)。

例舉離子注入工藝和擴(kuò)散工藝相比的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)。

解釋正性光刻和負(fù)性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？

描述曝光波長(zhǎng)和圖像分辨率之間的關(guān)系。

解釋掃描投影光刻機(jī)是怎樣工作的？掃描投影光刻機(jī)努力解決什么問題？

刻蝕工藝有哪兩種類型？簡(jiǎn)單描述各類刻蝕工藝。