最新試題
光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個(gè)重要參數(shù)是什么？
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描述電子回旋共振（ECR）。
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什么是結(jié)深？
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解釋什么是暗場(chǎng)掩模板？
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敘述氮化硅的濕法化學(xué)去除工藝。
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什么是硅化物？難熔金屬硅化物在硅片制造業(yè)中重要的原因是什么？
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給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？
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什么是阻擋層金屬？阻擋層材料的基本特征是什么？哪種金屬常被用作阻擋層金屬？
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解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低？
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例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個(gè)基本步驟。
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