例出光刻的8個步驟，并對每一步做出簡要解釋。

什么是阻擋層金屬？阻擋層材料的基本特征是什么？哪種金屬常被用作阻擋層金屬？

什么是摻雜？例舉四種常用的摻雜雜質(zhì)并說明它們是n型還是p型？

刻蝕工藝有哪兩種類型？簡單描述各類刻蝕工藝。

例舉雙大馬士革金屬化過程的10個步驟。

解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低？

例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。

定義刻蝕速率并描述它的計算公式。為什么希望有高的刻蝕速率？

給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？

解釋掃描投影光刻機是怎樣工作的？掃描投影光刻機努力解決什么問題？