離子源的目的是什么？最常用的離子源是什么？

光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個(gè)重要參數(shù)是什么？

什么是硅化物？難熔金屬硅化物在硅片制造業(yè)中重要的原因是什么？

解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低？

哪種化學(xué)氣體經(jīng)常用來刻蝕多晶硅？描述刻蝕多晶硅的三個(gè)步驟。

例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。

例舉離子注入工藝和擴(kuò)散工藝相比的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)。

例舉雙大馬士革金屬化過程的10個(gè)步驟。

解釋離子束擴(kuò)展和空間電荷中和。

描述曝光波長和圖像分辨率之間的關(guān)系。