問(wèn)答題什么是硅片的自然氧化層？由自然氧化層引起的三種問(wèn)題是什么？
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
1.問(wèn)答題對(duì)凈化間做一般性描述。
2.問(wèn)答題例舉出硅片廠中使用的五種通用氣體。
3.問(wèn)答題描述在硅片廠中使用的去離子水的概念。
4.問(wèn)答題砷化鎵相對(duì)于硅的優(yōu)點(diǎn)是什么？
5.問(wèn)答題最通常的半導(dǎo)體材料是什么？該材料使用最普遍的原因是什么？
最新試題
解釋掃描投影光刻機(jī)是怎樣工作的？掃描投影光刻機(jī)努力解決什么問(wèn)題？
題型：?jiǎn)柎痤}
例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。
題型：?jiǎn)柎痤}
例舉雙大馬士革金屬化過(guò)程的10個(gè)步驟。
題型：?jiǎn)柎痤}
什么是結(jié)深？
題型：?jiǎn)柎痤}
例舉并討論引入銅金屬化的五大優(yōu)點(diǎn)。
題型：?jiǎn)柎痤}
解釋正性光刻和負(fù)性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？
題型：?jiǎn)柎痤}
描述曝光波長(zhǎng)和圖像分辨率之間的關(guān)系。
題型：?jiǎn)柎痤}
解釋什么是暗場(chǎng)掩模板？
題型：?jiǎn)柎痤}
例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。
題型：?jiǎn)柎痤}
離子源的目的是什么？最常用的離子源是什么？
題型：?jiǎn)柎痤}