例出光刻的8個步驟，并對每一步做出簡要解釋。

解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低？

描述化學(xué)機械平坦化工藝。

什么是阻擋層金屬？阻擋層材料的基本特征是什么？哪種金屬常被用作阻擋層金屬？

例舉離子注入工藝和擴散工藝相比的優(yōu)點和缺點。

解釋什么是暗場掩模板？

刻蝕工藝有哪兩種類型？簡單描述各類刻蝕工藝。

例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。

什么是摻雜？例舉四種常用的摻雜雜質(zhì)并說明它們是n型還是p型？

例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個基本步驟。