例舉雙大馬士革金屬化過程的10個步驟。

定義刻蝕速率并描述它的計算公式。為什么希望有高的刻蝕速率？

什么是摻雜？例舉四種常用的摻雜雜質(zhì)并說明它們是n型還是p型？

離子源的目的是什么？最常用的離子源是什么？

光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個重要參數(shù)是什么？

例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。

什么是結(jié)深？

給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？

例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個基本步驟。

描述化學(xué)機械平坦化工藝。