例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個(gè)基本步驟。

光刻中采用步進(jìn)掃描技術(shù)獲得了什么好處？

描述RF濺射系統(tǒng)。

離子源的目的是什么？最常用的離子源是什么？

例舉離子注入工藝和擴(kuò)散工藝相比的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)。

描述電子回旋共振（ECR）。

給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？

例舉并討論引入銅金屬化的五大優(yōu)點(diǎn)。

解釋發(fā)生刻蝕反應(yīng)的化學(xué)機(jī)理和物理機(jī)理。

刻蝕工藝有哪兩種類型？簡單描述各類刻蝕工藝。