離子源的目的是什么？最常用的離子源是什么？

干法刻蝕的目的是什么？例舉干法刻蝕同濕法刻蝕相比具有的優(yōu)點。干法刻蝕的不足之處是什么？

描述曝光波長和圖像分辨率之間的關(guān)系。

描述電子回旋共振（ECR）。

例舉離子注入工藝和擴散工藝相比的優(yōu)點和缺點。

光刻中采用步進掃描技術(shù)獲得了什么好處？

解釋光刻膠顯影。光刻膠顯影的目的是什么？

描述RF濺射系統(tǒng)。

解釋鋁已經(jīng)被選擇作為微芯片互連金屬的原因。

解釋離子束擴展和空間電荷中和。