解釋什么是暗場掩模板？

描述電子回旋共振（ECR）。

例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。

例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。

解釋正性光刻和負性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？

定義刻蝕速率并描述它的計算公式。為什么希望有高的刻蝕速率？

光刻中采用步進掃描技術(shù)獲得了什么好處？

光學光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個重要參數(shù)是什么？

例舉并討論引入銅金屬化的五大優(yōu)點。

什么是硅化物？難熔金屬硅化物在硅片制造業(yè)中重要的原因是什么？