多項選擇題去正膠常用的溶劑有（）
A.丙酮
B.氫氧化鈉溶液
C.丁酮
D.甲乙酮
E.熱的氯化碳氫化合物
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1.多項選擇題光刻膠的光學穩(wěn)定通過（）來完成的。
A.紅外線輻射
B.X射線照射
C.加熱
D.紫外光輻射
E.電子束掃描
2.多項選擇題晶片經過顯影后進行堅膜，堅膜的主要作用有（）。
A.除去光刻膠中剩余的溶劑
B.增強光刻膠對晶片表面的附著力
C.提高光刻膠的抗刻蝕能力
D.有利于以后的去膠工序
E.減少光刻膠的缺陷
3.多項選擇題有關光刻膠的顯影下列說法錯誤的是（）。
A.負膠受顯影液的影響比較小
B.正膠受顯影液的影響比較小
C.正膠的曝光區(qū)將會膨脹變形
D.使用負膠可以得到更高的分辨率
E.負膠的曝光區(qū)將會膨脹變形
4.單項選擇題下列哪些因素不會影響到顯影效果的是（）。
A.顯影液的溫度
B.顯影液的濃度
C.顯影液的溶解度
D.顯影液的化學成分
5.多項選擇題下列有關ARC工藝的說法正確的是（）。
A.ARC可以是硅的氮化物
B.可用干法刻蝕除去
C.ARC膜可以通過PVD或者CVD的方法形成
D.ARC在刻蝕中也可做為掩蔽層
E.ARC膜也可以通過CVD的方法形成
