鋁的電遷移可能導(dǎo)致的結(jié)果是（）

金屬薄膜制備中常見的濺射方式有（）

以下屬于刻蝕環(huán)節(jié)質(zhì)量要求的是（）

離子注入機掃描系統(tǒng)中，采用的掃描方式有（）

敘述測試晶體管的方法？

在顯影過程中，對于正性抗蝕劑，顯影液的使用要求是（）。

通過分析刻蝕前后刻蝕腔內(nèi)的成分來判斷是否達到終點的終點檢測方法是（）

堅膜烘焙在加熱平板上進行，溫度控制在（）。

光刻膠對人部分可見光敏感，但對（）光不敏感。

以下是離子注入過程中的主要參數(shù)的是（）