多項(xiàng)選擇題最常用的砷化鎵的濕法刻蝕腐蝕液包括（）
A.硫酸
B.氫氟酸
C.雙氧水
D.去離子水
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1.單項(xiàng)選擇題（）可以通過帶電粒子在盛場(chǎng)作用下做運(yùn)動(dòng)把粒子進(jìn)行篩選，挑選出唯一需要注入的離子。
A.離子源
B.磁分析器
C.加速管
D.終端系統(tǒng)
2.單項(xiàng)選擇題利用高溫驅(qū)動(dòng)雜質(zhì)滲透進(jìn)半導(dǎo)體內(nèi)，此工序采用的設(shè)備是（）
A.擴(kuò)散爐
B.離子注入機(jī)
C.加熱平板
D.對(duì)流烘箱
3.單項(xiàng)選擇題電子束蒸發(fā)中有一個(gè)特殊的部件是（）
A.電阻絲
B.電子束
C.電子槍
D.石墨
4.單項(xiàng)選擇題通常鉭、鈷、鎳等難溶金屬應(yīng)用于（）
A.金屬連線
B.填充塞
C.焊接層
D.阻擋層
5.單項(xiàng)選擇題解決金屬鋁與襯底之間肖特基接觸的方法有（）。
A.阻擋金屬
B.鋁銅合金
C.鋁硅合金
D.重?fù)诫s
最新試題
傳統(tǒng)的平坦化技術(shù)有（）
題型：多項(xiàng)選擇題
根據(jù)曝光模式，光制機(jī)的種類分為（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
堅(jiān)膜烘焙在加熱平板上進(jìn)行，溫度控制在（）。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
最常用的砷化橡的濕法刻蝕腐蝕液包括（）
題型：多項(xiàng)選擇題
兼具有各向異性刻蝕的優(yōu)點(diǎn)，又有可接受的選擇比的刻蝕方法是（）。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
金屬薄膜制備中常見的濺射方式有（）
題型：多項(xiàng)選擇題
解決金屬鋁與襯底之間肖特基接觸的方法有（）。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
當(dāng)需要刻蝕的圖形尺寸大于3um時(shí)，一般使用（）。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
利用高溫驅(qū)動(dòng)雜質(zhì)滲透進(jìn)半導(dǎo)體內(nèi)，此工序采用的設(shè)備是（）
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
光刻膠對(duì)人部分可見光敏感，但對(duì)（）光不敏感。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題