當需要刻蝕的圖形尺寸大于3um時，一般使用（）。

以下是離子注入過程中的主要參數(shù)的是（）

環(huán)境溫度的變化可影響硅片的涂膠均勻性，通常將環(huán)境溫度設定于（）。

一般情況下，刻蝕完成后需要進行的操作是（）

傳統(tǒng)的平坦化技術有（）

電子束蒸發(fā)中有一個特殊的部件是（）

刻蝕的過程中，對刻蝕的要求是（）

鋁的電遷移可能導致的結(jié)果是（）

兼具有各向異性刻蝕的優(yōu)點，又有可接受的選擇比的刻蝕方法是（）。

調(diào)試和維修電路時排除故障的一般程序和方法是怎樣的？