例舉離子注入設(shè)備的5個主要子系統(tǒng)。

解釋光刻膠顯影。光刻膠顯影的目的是什么？

給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？

解釋發(fā)生刻蝕反應的化學機理和物理機理。

解釋離子束擴展和空間電荷中和。

干法刻蝕的目的是什么？例舉干法刻蝕同濕法刻蝕相比具有的優(yōu)點。干法刻蝕的不足之處是什么？

描述RF濺射系統(tǒng)。

描述曝光波長和圖像分辨率之間的關(guān)系。

例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個基本步驟。

在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么？