刻蝕工藝有哪兩種類型？簡單描述各類刻蝕工藝。

描述電子回旋共振（ECR）。

定義刻蝕選擇比。干法刻蝕的選擇比是高還是低？高選擇比意味著什么？

例舉并討論引入銅金屬化的五大優(yōu)點。

解釋離子束擴展和空間電荷中和。

例舉并描出旋轉涂膠的4個基本步驟。

給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？

例舉離子注入工藝和擴散工藝相比的優(yōu)點和缺點。

干法刻蝕的目的是什么？例舉干法刻蝕同濕法刻蝕相比具有的優(yōu)點。干法刻蝕的不足之處是什么？

描述曝光波長和圖像分辨率之間的關系。