解釋光刻膠顯影。光刻膠顯影的目的是什么？

離子源的目的是什么？最常用的離子源是什么？

描述電子回旋共振（ECR）。

刻蝕工藝有哪兩種類型？簡單描述各類刻蝕工藝。

光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個重要參數(shù)是什么？

例出光刻的8個步驟，并對每一步做出簡要解釋。

光刻中采用步進掃描技術(shù)獲得了什么好處？

解釋什么是暗場掩模板？

給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？

敘述氮化硅的濕法化學(xué)去除工藝。