下列可能造成離子源沾污的因素是（）

（）可以通過帶電粒子在盛場作用下做運動把粒子進行篩選，挑選出唯一需要注入的離子。

金屬薄膜制備中常見的濺射方式有（）

堅膜烘焙在加熱平板上進行，溫度控制在（）。

離子注入機掃描系統(tǒng)中，采用的掃描方式有（）

在顯影過程中，對于正性抗蝕劑，顯影液的使用要求是（）。

敘述測試晶體管的方法？

根據(jù)曝光模式，光制機的種類分為（）。

調(diào)試和維修電路時排除故障的一般程序和方法是怎樣的？

刻蝕的過程中，對刻蝕的要求是（）