敘述測(cè)試晶體管的方法？

下列可能造成離子源沾污的因素是（）

離子注入機(jī)掃描系統(tǒng)中，采用的掃描方式有（）

影響顯影工藝的因素有（）。

光刻膠對(duì)人部分可見光敏感，但對(duì)（）光不敏感。

試說明ICT測(cè)試電阻器阻值的原理？為什么要加隔離點(diǎn)？

鋁的電遷移可能導(dǎo)致的結(jié)果是（）

下列哪些是進(jìn)行光刻前的預(yù)處理的步驟？（）

金屬薄膜制備中常見的濺射方式有（）

當(dāng)需要刻蝕的圖形尺寸大于3um時(shí)，一般使用（）。