單項(xiàng)選擇題（）可以通過帶電粒子在盛場作用下做運(yùn)動(dòng)把粒子進(jìn)行篩選，挑選出唯一需要注入的離子。
A.離子源
B.磁分析器
C.加速管
D.終端系統(tǒng)
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
1.單項(xiàng)選擇題利用高溫驅(qū)動(dòng)雜質(zhì)滲透進(jìn)半導(dǎo)體內(nèi)，此工序采用的設(shè)備是（）
A.擴(kuò)散爐
B.離子注入機(jī)
C.加熱平板
D.對流烘箱
2.單項(xiàng)選擇題電子束蒸發(fā)中有一個(gè)特殊的部件是（）
A.電阻絲
B.電子束
C.電子槍
D.石墨
3.單項(xiàng)選擇題通常鉭、鈷、鎳等難溶金屬應(yīng)用于（）
A.金屬連線
B.填充塞
C.焊接層
D.阻擋層
4.單項(xiàng)選擇題解決金屬鋁與襯底之間肖特基接觸的方法有（）。
A.阻擋金屬
B.鋁銅合金
C.鋁硅合金
D.重?fù)诫s
最新試題
通過分析刻蝕前后刻蝕腔內(nèi)的成分來判斷是否達(dá)到終點(diǎn)的終點(diǎn)檢測方法是（）
題型：單項(xiàng)選擇題
最常用的砷化鎵的濕法刻蝕腐蝕液包括（）
題型：多項(xiàng)選擇題
刻蝕的過程中，對刻蝕的要求是（）
題型：多項(xiàng)選擇題
在顯影過程中，對于正性抗蝕劑，顯影液的使用要求是（）。
題型：單項(xiàng)選擇題
通常鉭、鈷、鎳等難溶金屬應(yīng)用于（）
題型：單項(xiàng)選擇題
環(huán)境溫度的變化可影響硅片的涂膠均勻性，通常將環(huán)境溫度設(shè)定于（）。
題型：單項(xiàng)選擇題
鋁的電遷移可能導(dǎo)致的結(jié)果是（）
題型：多項(xiàng)選擇題
堅(jiān)膜烘焙在加熱平板上進(jìn)行，溫度控制在（）。
題型：單項(xiàng)選擇題
電子束蒸發(fā)中有一個(gè)特殊的部件是（）
題型：單項(xiàng)選擇題
回態(tài)源擴(kuò)散的雜質(zhì)源有（）
題型：多項(xiàng)選擇題