環(huán)境溫度的變化可影響硅片的涂膠均勻性，通常將環(huán)境溫度設(shè)定于（）。

在顯影過程中，對于正性抗蝕劑，顯影液的使用要求是（）。

試說明ICT測試電阻器阻值的原理？為什么要加隔離點？

（）可以通過帶電粒子在盛場作用下做運動把粒子進行篩選，挑選出唯一需要注入的離子。

刻蝕氮化硅薄膜時，可以用加熱的磷酸進行刻蝕，此時的溫度一般設(shè)置在（）

根據(jù)曝光模式，光制機的種類分為（）。

最常用的砷化橡的濕法刻蝕腐蝕液包括（）

以下屬于刻蝕環(huán)節(jié)質(zhì)量要求的是（）

下列哪些是進行光刻前的預處理的步驟？（）

鋁的電遷移可能導致的結(jié)果是（）