以下是離子注入過程中的主要參數的是（）

通過分析刻蝕前后刻蝕腔內的成分來判斷是否達到終點的終點檢測方法是（）

高壓汞燈作為紫外光源被使用有常規(guī)i線步進光刻機上，那么i線的UV光波長為（）

最常用的砷化橡的濕法刻蝕腐蝕液包括（）

調試和維修電路時排除故障的一般程序和方法是怎樣的？

光刻膠對人部分可見光敏感，但對（）光不敏感。

回態(tài)源擴散的雜質源有（）

環(huán)境溫度的變化可影響硅片的涂膠均勻性，通常將環(huán)境溫度設定于（）。

敘述測試晶體管的方法？

下列哪些是進行光刻前的預處理的步驟？（）