填空題在擴散之前在硅表面先沉積一層雜質(zhì),在整個過程中這層雜質(zhì)作為擴散的雜質(zhì)源,不再有新的雜質(zhì)補充,這種擴散方式稱為:()
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1.單項選擇題人們規(guī)定:()電壓為安全電壓.
A.36伏以下
B.50伏以下
C.24伏以下
2.單項選擇題單相3線插座接線有嚴格規(guī)定()
A.“左零”“右火”
B.“左火”“右零”
3.多項選擇題按蒸發(fā)源加熱方法的不同,真空蒸發(fā)工藝可分為:()蒸發(fā)、()蒸發(fā)、離子束蒸發(fā)等。
A.電阻加熱
B.電子束
C.蒸氣原子
4.單項選擇題將預(yù)先制好的掩膜直接和涂有光致抗蝕劑的晶片表面接觸,再用紫外光照射來進行曝光的方法,稱為()曝光。
A.接觸
B.接近式
C.投影
5.單項選擇題光刻工藝是利用感光膠感光后抗腐蝕的特性在半導(dǎo)體晶片表面的掩膜層上的工藝()
A.刻制圖形
B.繪制圖形
C.制作圖形
最新試題
目前在半自動化和自動化的鍵合機上用的金絲或硅鋁絲都是經(jīng)生產(chǎn)廠家嚴格處理包裝后銷售,一般不能再退火,一經(jīng)退火反而壞了性能。()
題型:判斷題
單晶是原子或離子沿著三個不同的方向按一定的周期有規(guī)則的排列,并沿一致的晶體學(xué)取向所堆垛起來的遠程有序的晶體。()
題型:判斷題
晶體的特點是在各不同晶向上的物理性能、機械性能、化學(xué)性能都相同。()
題型:判斷題
敘述H2還原SiCl4外延的原理,寫出化學(xué)方程式。
題型:問答題
片狀源擴散具有設(shè)備簡單,操作方便,晶片缺陷少,均勻性、重復(fù)性和表面質(zhì)量都較好,適于批量生產(chǎn),應(yīng)用越來越普遍。()
題型:判斷題
低溫淀積二氧化硅生長溫度低、制作方便,但膜不夠致密,耐潮性和抗離子沾污能力較差。()
題型:判斷題
鈀.銀電阻的燒結(jié)分預(yù)燒結(jié)、燒結(jié)、降溫冷卻三個階段。()
題型:判斷題
點缺陷,如空位、間隙原子、反位缺陷、替位缺陷,和由它們構(gòu)成的復(fù)合體。()
題型:判斷題
設(shè)置的非破壞性鍵合拉力通常為最小鍵合強度的50%。()
題型:判斷題
值稱為共發(fā)射極電流放大系數(shù),是晶體管的一個重要參數(shù),也是檢驗晶體管經(jīng)過硼、砷摻雜后的兩個pn結(jié)質(zhì)量優(yōu)劣的重要標志。()
題型:判斷題