半導(dǎo)體芯片制造工藝對(duì)水質(zhì)的要求一般.（）

門(mén)陣列的基本結(jié)構(gòu)形式有兩種：一種是晶體管陣列，一種是門(mén)陣列（）

離子源是產(chǎn)生離子的裝置。（）

遷移率是反映半導(dǎo)體中載流子導(dǎo)電能力的重要參數(shù)。摻雜半導(dǎo)體的電導(dǎo)率一方面取決于摻雜的濃度，另一方面取決于遷移率的大小。同樣的摻雜濃度，載流子的遷移率越大，材料的電導(dǎo)率就越高。（）

干法腐蝕清潔、干凈、無(wú)脫膠現(xiàn)象、圖形精度和分辨率高。（）

退火處理能使金絲和硅鋁絲的抗斷強(qiáng)度下降。（）

雙極晶體管中只有一種載流子（電子或空穴）傳輸電流。（）

在半導(dǎo)體中摻金是為了使非平衡載流子的壽命增加。（）

拋光片的電學(xué)參數(shù)包括電阻率，載流子濃度，遷移率，直徑、厚度、主參考面等。（）

絲網(wǎng)印刷膜的厚度不隨著刮板移動(dòng)速度的增加而減小。（）