例出光刻的8個步驟，并對每一步做出簡要解釋。

解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低？

什么是硅化物？難熔金屬硅化物在硅片制造業(yè)中重要的原因是什么？

在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么？

解釋什么是暗場掩模板？

哪種化學(xué)氣體經(jīng)常用來刻蝕多晶硅？描述刻蝕多晶硅的三個步驟。

例舉并討論引入銅金屬化的五大優(yōu)點。

解釋正性光刻和負性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？

定義刻蝕速率并描述它的計算公式。為什么希望有高的刻蝕速率？

例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個基本步驟。