例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。

解釋光刻膠顯影。光刻膠顯影的目的是什么？

例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。

解釋發(fā)生刻蝕反應(yīng)的化學機理和物理機理。

描述電子回旋共振（ECR）。

干法刻蝕的目的是什么？例舉干法刻蝕同濕法刻蝕相比具有的優(yōu)點。干法刻蝕的不足之處是什么？

例出光刻的8個步驟，并對每一步做出簡要解釋。

描述RF濺射系統(tǒng)。

定義刻蝕速率并描述它的計算公式。為什么希望有高的刻蝕速率？

解釋正性光刻和負性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？