影響顯影工藝的因素有（）。

根據(jù)曝光模式，光制機(jī)的種類分為（）。

鋁的電遷移可能導(dǎo)致的結(jié)果是（）

光刻膠對人部分可見光敏感，但對（）光不敏感。

高壓汞燈作為紫外光源被使用有常規(guī)i線步進(jìn)光刻機(jī)上，那么i線的UV光波長為（）

下列可能造成離子源沾污的因素是（）

以下是離子注入過程中的主要參數(shù)的是（）

解決金屬鋁與襯底之間肖特基接觸的方法有（）。

回態(tài)源擴(kuò)散的雜質(zhì)源有（）

通常鉭、鈷、鎳等難溶金屬應(yīng)用于（）