多項(xiàng)選擇題以下是離子注入過程中的主要參數(shù)的是（）

A.劑量與束流密度
B.射程與注入能量
C.注入角度
D.晶圓


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1.多項(xiàng)選擇題下列可能造成離子源沾污的因素是（）

A.離子源是否被沾污
B.真空系統(tǒng)是否漏氣
C.原材料是否滿足純度要求
D.光刻膠的堿性元素沾污

2.多項(xiàng)選擇題離子注入機(jī)掃描系統(tǒng)中，采用的掃描方式有（）

A.靜電掃描
B.機(jī)械掃描
C.混合掃描
D.平行掃描

3.多項(xiàng)選擇題傳統(tǒng)的平坦化技術(shù)有（）

A.反刻法
B.高溫回流法
C.旋涂玻璃法
D.化學(xué)機(jī)械拋光法

4.多項(xiàng)選擇題金屬薄膜制備中常見的濺射方式有（）

A.直流濺射
B.射頻濺射
C.磁控濺射
D.準(zhǔn)直濺射

5.多項(xiàng)選擇題鋁的電遷移可能導(dǎo)致的結(jié)果是（）

A.陽極短路
B.陽極斷路
C.陰極短路
D.陰極斷路