回態(tài)源擴(kuò)散的雜質(zhì)源有（）

以下屬于刻蝕環(huán)節(jié)質(zhì)量要求的是（）

鋁的電遷移可能導(dǎo)致的結(jié)果是（）

光刻膠對(duì)人部分可見(jiàn)光敏感，但對(duì)（）光不敏感。

利用高溫驅(qū)動(dòng)雜質(zhì)滲透進(jìn)半導(dǎo)體內(nèi)，此工序采用的設(shè)備是（）

通過(guò)分析刻蝕前后刻蝕腔內(nèi)的成分來(lái)判斷是否達(dá)到終點(diǎn)的終點(diǎn)檢測(cè)方法是（）

兼具有各向異性刻蝕的優(yōu)點(diǎn)，又有可接受的選擇比的刻蝕方法是（）。

解決金屬鋁與襯底之間肖特基接觸的方法有（）。

分結(jié)深是重要的結(jié)構(gòu)參數(shù)，在檢驗(yàn)時(shí)發(fā)現(xiàn)超淺結(jié)注入時(shí)，判斷其造成原因有（）

通常鉭、鈷、鎳等難溶金屬應(yīng)用于（）