電子束蒸發(fā)中有一個特殊的部件是（）

在離子注入完成后，檢驗(yàn)到硅片表面有顆粒污染嚴(yán)重的情況，該情況引起的主要問題有（）

離子注入機(jī)掃描系統(tǒng)中，采用的掃描方式有（）

下列哪些是進(jìn)行光刻前的預(yù)處理的步驟？（）

影響顯影工藝的因素有（）。

最常用的砷化橡的濕法刻蝕腐蝕液包括（）

回態(tài)源擴(kuò)散的雜質(zhì)源有（）

刻蝕的過程中，對刻蝕的要求是（）

鋁的電遷移可能導(dǎo)致的結(jié)果是（）

下列可能造成離子源沾污的因素是（）