敘述測(cè)試晶體管的方法？

當(dāng)需要刻蝕的圖形尺寸大于3um時(shí)，一般使用（）。

調(diào)試和維修電路時(shí)排除故障的一般程序和方法是怎樣的？

環(huán)境溫度的變化可影響硅片的涂膠均勻性，通常將環(huán)境溫度設(shè)定于（）。

以下屬于刻蝕環(huán)節(jié)質(zhì)量要求的是（）

最常用的砷化鎵的濕法刻蝕腐蝕液包括（）

最常用的砷化橡的濕法刻蝕腐蝕液包括（）

傳統(tǒng)的平坦化技術(shù)有（）

解決金屬鋁與襯底之間肖特基接觸的方法有（）。

利用高溫驅(qū)動(dòng)雜質(zhì)滲透進(jìn)半導(dǎo)體內(nèi)，此工序采用的設(shè)備是（）