多項(xiàng)選擇題影響顯影工藝的因素有（）。

A.曝光度
B.顯影液濃度
C.顯影方法
D.工序的溫度和時(shí)間容量


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1.多項(xiàng)選擇題下列哪些是進(jìn)行光刻前的預(yù)處理的步驟？（）

A.脫水烘烤
B.旋轉(zhuǎn)涂布法涂HMDS
C.氣拍涂底法涂HDMS
D.軟烘

2.多項(xiàng)選擇題根據(jù)曝光模式，光制機(jī)的種類分為（）。

A.接觸式曝光
B.接近式曝光
C.掃描式曝光
D.投影式曝光

3.多項(xiàng)選擇題刻蝕的過程中，對(duì)刻蝕的要求是（）

A.圖形的保真度高
B.選擇比越接近1：1越好
C.均勻性好
D.晶圓表面的潔凈

4.多項(xiàng)選擇題以下屬于刻蝕環(huán)節(jié)質(zhì)量要求的是（）

A.均勻性好
B.圖形保真度高
C.選擇比低
D.潔凈度高

5.多項(xiàng)選擇題最常用的砷化鎵的濕法刻蝕腐蝕液包括（）

A.硫酸
B.氫氟酸
C.雙氧水
D.去離子水