多項(xiàng)選擇題以下屬于刻蝕環(huán)節(jié)質(zhì)量要求的是（）
A.均勻性好
B.圖形保真度高
C.選擇比低
D.潔凈度高
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1.多項(xiàng)選擇題最常用的砷化鎵的濕法刻蝕腐蝕液包括（）
A.硫酸
B.氫氟酸
C.雙氧水
D.去離子水
2.單項(xiàng)選擇題（）可以通過帶電粒子在盛場作用下做運(yùn)動(dòng)把粒子進(jìn)行篩選，挑選出唯一需要注入的離子。
A.離子源
B.磁分析器
C.加速管
D.終端系統(tǒng)
3.單項(xiàng)選擇題利用高溫驅(qū)動(dòng)雜質(zhì)滲透進(jìn)半導(dǎo)體內(nèi)，此工序采用的設(shè)備是（）
A.擴(kuò)散爐
B.離子注入機(jī)
C.加熱平板
D.對(duì)流烘箱
4.單項(xiàng)選擇題電子束蒸發(fā)中有一個(gè)特殊的部件是（）
A.電阻絲
B.電子束
C.電子槍
D.石墨
5.單項(xiàng)選擇題通常鉭、鈷、鎳等難溶金屬應(yīng)用于（）
A.金屬連線
B.填充塞
C.焊接層
D.阻擋層
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（）可以通過帶電粒子在盛場作用下做運(yùn)動(dòng)把粒子進(jìn)行篩選，挑選出唯一需要注入的離子。
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