最常用的砷化鎵的濕法刻蝕腐蝕液包括（）

說明功能檢測工裝的制作原理？

刻蝕的過程中，對刻蝕的要求是（）

在顯影過程中，對于正性抗蝕劑，顯影液的使用要求是（）。

高壓汞燈作為紫外光源被使用有常規(guī)i線步進光刻機上，那么i線的UV光波長為（）

影響顯影工藝的因素有（）。

當需要刻蝕的圖形尺寸大于3um時，一般使用（）。

一般情況下，刻蝕完成后需要進行的操作是（）

金屬薄膜制備中常見的濺射方式有（）

根據(jù)曝光模式，光制機的種類分為（）。