問(wèn)答題光電耦合器的主要工作原理是什么?其主要特點(diǎn)是什么?主要參數(shù)有哪些?
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
2.問(wèn)答題試說(shuō)明光電晶體管的結(jié)構(gòu)和工作原理是什么?
3.問(wèn)答題試說(shuō)明光電二極管的結(jié)構(gòu)和工作原理是什么?
4.問(wèn)答題選用電聲元件時(shí)應(yīng)注意哪些問(wèn)題?
最新試題
傳統(tǒng)的平坦化技術(shù)有()
題型:多項(xiàng)選擇題
解決金屬鋁與襯底之間肖特基接觸的方法有()。
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
下列可能造成離子源沾污的因素是()
題型:多項(xiàng)選擇題
刻蝕氮化硅薄膜時(shí),可以用加熱的磷酸進(jìn)行刻蝕,此時(shí)的溫度一般設(shè)置在()
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
通常鉭、鈷、鎳等難溶金屬應(yīng)用于()
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
當(dāng)需要刻蝕的圖形尺寸大于3um時(shí),一般使用()。
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
以下屬于刻蝕環(huán)節(jié)質(zhì)量要求的是()
題型:多項(xiàng)選擇題
()可以通過(guò)帶電粒子在盛場(chǎng)作用下做運(yùn)動(dòng)把粒子進(jìn)行篩選,挑選出唯一需要注入的離子。
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
假設(shè)光刻膠的厚度是2000埃,二氧化硅的厚度為4000塊,如果要求經(jīng)過(guò)30秒的刻蝕后,厚度變?yōu)?400埃,那么這個(gè)過(guò)程中刻蝕速率是()埃/分鐘。
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
兼具有各向異性刻蝕的優(yōu)點(diǎn),又有可接受的選擇比的刻蝕方法是()。
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題