環(huán)境溫度的變化可影響硅片的涂膠均勻性，通常將環(huán)境溫度設定于（）。

兼具有各向異性刻蝕的優(yōu)點，又有可接受的選擇比的刻蝕方法是（）。

以下屬于刻蝕環(huán)節(jié)質(zhì)量要求的是（）

當需要刻蝕的圖形尺寸大于3um時，一般使用（）。

電子束蒸發(fā)中有一個特殊的部件是（）

高壓汞燈作為紫外光源被使用有常規(guī)i線步進光刻機上，那么i線的UV光波長為（）

解決金屬鋁與襯底之間肖特基接觸的方法有（）。

試說明ICT測試電阻器阻值的原理？為什么要加隔離點？

鋁的電遷移可能導致的結果是（）

影響顯影工藝的因素有（）。