單項(xiàng)選擇題利用高溫驅(qū)動雜質(zhì)滲透進(jìn)半導(dǎo)體內(nèi)，此工序采用的設(shè)備是（）
A.擴(kuò)散爐
B.離子注入機(jī)
C.加熱平板
D.對流烘箱
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1.單項(xiàng)選擇題電子束蒸發(fā)中有一個(gè)特殊的部件是（）
A.電阻絲
B.電子束
C.電子槍
D.石墨
2.單項(xiàng)選擇題通常鉭、鈷、鎳等難溶金屬應(yīng)用于（）
A.金屬連線
B.填充塞
C.焊接層
D.阻擋層
3.單項(xiàng)選擇題解決金屬鋁與襯底之間肖特基接觸的方法有（）。
A.阻擋金屬
B.鋁銅合金
C.鋁硅合金
D.重?fù)诫s
5.問答題說明功能檢測工裝的制作原理？
最新試題
金屬薄膜制備中常見的濺射方式有（）
題型：多項(xiàng)選擇題
堅(jiān)膜烘焙在加熱平板上進(jìn)行，溫度控制在（）。
題型：單項(xiàng)選擇題
試說明ICT測試電阻器阻值的原理？為什么要加隔離點(diǎn)？
題型：問答題
高壓汞燈作為紫外光源被使用有常規(guī)i線步進(jìn)光刻機(jī)上，那么i線的UV光波長為（）
題型：單項(xiàng)選擇題
下列哪些是進(jìn)行光刻前的預(yù)處理的步驟？（）
題型：多項(xiàng)選擇題
在離子注入完成后，檢驗(yàn)到硅片表面有顆粒污染嚴(yán)重的情況，該情況引起的主要問題有（）
題型：多項(xiàng)選擇題
光刻膠對人部分可見光敏感，但對（）光不敏感。
題型：單項(xiàng)選擇題
刻蝕的過程中，對刻蝕的要求是（）
題型：多項(xiàng)選擇題
通過分析刻蝕前后刻蝕腔內(nèi)的成分來判斷是否達(dá)到終點(diǎn)的終點(diǎn)檢測方法是（）
題型：單項(xiàng)選擇題
當(dāng)需要刻蝕的圖形尺寸大于3um時(shí)，一般使用（）。
題型：單項(xiàng)選擇題